中芯国际或能绕开光刻机 实现”伪7nm”量产

欧界报道：

说到芯片领域，虽然很多人都会觉得陌生，但是绝对会有一个概念，那就是芯片在科技领域里属于高端科技。但是其实不只有芯片本身是高端科技，就连芯片生产研发的整个过程工序也是十分高端，没有具备一定的实力的企业是没有办法生产出合格优质的芯片的。而在现在的芯片生产领域里，最大的芯片代工厂就是大名鼎鼎的台积电。

台积电虽然拥有全球领先的代工技术，但是大股东却是美国公司，并且不日还要”赴美设厂”。而我们最大的芯片代工厂中芯国际，却依然面临缺乏EUV极紫外光刻机，迟迟不能突破10nm以下制程的尴尬境地。

芯片生产过程中最重要的就是光刻机，而台积电的代加工设备就是使用了荷兰的asml的产品。但尽管没能从荷兰引进7nm制造工艺的光刻机，但中芯国际也可以绕过ASML光刻机，采用N+1工艺制造出接近7nm工艺的芯片。

近日，中芯国际称N+1工艺的芯片将于年底量产。据悉，N+1工艺对比14nm功耗降低了57%、逻辑面积小了63%、SOC面积减少55%。这换算下来，正是可以比肩台积电的7nm芯片。也就是说，我们没有ASML的EUV光刻机，也能做出7nm芯片。但因为其在性能和规格上和台积电规定的标准7nm芯片还有所差距，所以被业界称为”伪7nm”。等以后中芯国际的技术上去了，自己也可以制定一个业内通用的芯片标准。

中芯确实不易，一直以来，台积电霸占着这个市场，掌握着绝对话语权。中芯与台积电的大战，屡屡受挫。但意外的是，中芯并没有放弃，而是再次向世界先进制程发起冲锋！如今中芯国际这个是DUV工艺实现的7nm，虽然成本比EUV高些，但起码是解决了从无到有的问题。

总而言之，中芯国际现在已经成为全球第三家掌握10纳米以下工艺的芯片企业了，中芯国际不仅仅是为在为自己争气，也是让我们国家扬眉吐气。先有华为，后有中芯国际，国企不再是过去廉价低成本的象征，而是慢慢跻身进世界排名前列，在各个领域里留下自己的名字。华为跟中芯国际是个例，在未来，他们不会孤独，因为有更多的国企正在崛起的路上。

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